平面抛光机详细介绍 适用(yòng)行业和应用(yòng)范围

平面抛光机，顾名思义，就是把一些物(wù)體(tǐ)的表面的毛精糙部分(fēn)，清理(lǐ)掉，以达到镜面效果。平面抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。

抛光分(fēn)為(wèi)两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有(yǒu)大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可(kě)能(néng)小(xiǎo)；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到小(xiǎo)。

平面抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新(xīn)磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物(wù)局部磨损太快在抛光过程中要不断添加抛光液或其它抛光助剂，使抛光织物(wù)保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用(yòng)，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物(wù)及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小(xiǎo)时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用(yòng)减小(xiǎo)，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面，会出现发黄的现像。

粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有(yǒu)均匀细致的磨痕，有(yǒu)待精抛消除。精抛时转盘速度可(kě)适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层為(wèi)宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可(kě)见到磨痕。